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IR+UV EXPO 2012　赤外・紫外・可視光応用技術展2012

開催日：2012年4月25日（水）～27日（金）

会場：パシフィコ横浜

＜主な展示内容＞

赤外線光源、赤外線センサ、赤外線光学材料、赤外線応用技術、紫外線光源、紫外線検出機、紫外線光学材料、紫外線応用技術、可視光通信製品など、赤外線/紫外線/可視光関連製品

＜問合わせ先＞

（株）オプトロニクス社

URL：http://www.optronics.co.jp/opi/uvir.php

この投稿は 2012年4月25日 水曜日 5:16 PM に 展示会情報 カテゴリーに公開されました。 この投稿へのコメントは RSS 2.0 フィードで購読することができます。 現在コメント、トラックバックともに受け付けておりません。